Высокочастотная индукционная плазменная установка

Типовые работы и оказываемые услуги на высокочастотной индукционной плазменной установке с мощностью источника питания 1 МВ∙А, 440 кГц

- Плазменная обработка различных материалов, преимущественно силикатных, оксидных  соединений, в высокочастотной индукционной плазме атмосферного давления высокоэнтальпийных потоков молекулярных газов (воздух, азот) и аргона
- Исследование процесса разрушения кристаллической решетки минералов  и эффективности вскрытия природных минералов для последующего гидрометаллургического извлечения ценных компонентов
- Плазменная обработка порошков оксидных материалов различных фракций на заказ с целью сфероидизации для последующего применения в технической керамике, аддитивных технологиях
- Проведение химических анализов полученных продуктов плазменной обработки
- Стоимость типовых работ и услуг обсуждается индивидуально

Описание высокочастотной индукционной плазменной установки с мощностью источника питания 1 МВ∙А, 440 кГц

- мощность в плазменном разряде 500 кВт (кратковременно до 600 кВт)
-размер плазменного разряда 150х600 мм
-высокочастотная индукционная плазме атмосферного давления высокоэнтальпийных потоков молекулярных газов (воздух, азот) и аргона
-расход газа варьируется от 90 м3/ч до 300 м3/ч